半導体熱抵抗合成 計算ツール|Rth(j-c)+(c-s)+(s-a)と最大許容損失・冷却設計判断
パワー半導体の熱抵抗合成 Rth(j-a) = Rth(j-c) + Rth(c-s) + Rth(s-a)を、接合-ケース・ケース-ヒートシンク・ヒートシンク-空気の各要素から瞬時計算。最大許容損失(P_max)・接合温度予測・ヒートシンク選定判断まで対応。EV/太陽光PCS/データセンター/産業モータインバータの冷却設計に必要な指標を、JEDEC JESD51・JIS C 60747などの公的規格に基づき解説します。
半導体熱抵抗合成ツール
計算式と単位系
合成熱抵抗(直列合成)
Rth(j-a) = Rth(j-c) + Rth(c-s) + Rth(s-a) (℃/W または K/W)
3要素の直列合成で、電気回路の直列抵抗と同じ考え方です。単位はいずれも ℃/W(=K/W)。合計値のうち最大要素がボトルネックとなり、冷却改善の優先度もそこから決まります。並列冷却(両面冷却)の場合は電気回路の並列抵抗と同様に計算します。
最大許容損失
P_max = (Tj_max − Ta) / Rth(j-a)
接合温度上限(Si 150℃, SiC 175-200℃, GaN 150-175℃)と周囲温度Taの差を、合成熱抵抗で割るとデバイスに許される最大損失が求まります。実運用ではこの70-80%を上限とするのが安全設計の慣習です。
実運用時の接合温度予測
Tj = Ta + P_loss × Rth(j-a)
実際の損失P_lossから接合温度が予測できます。損失計算はスイッチング損失ツールを参照。
3要素の物理的意味
熱抵抗合成の3要素は、それぞれ物理的にまったく異なる熱伝達現象です。
| 要素 | 熱伝達現象 | 設計変数 |
|---|---|---|
| Rth(j-c) 接合-ケース | ダイからパッケージ底面までの固体内熱伝導 | ダイサイズ・パッケージ構造(TO220/TO247/D2PAK等) |
| Rth(c-s) ケース-ヒートシンク | パッケージ底面から放熱器までの界面熱抵抗 | TIM(グリス・シート・PCM)・面粗さ・押付力 |
| Rth(s-a) ヒートシンク-空気 | 放熱器から周囲への対流+輻射 | フィン形状・風速・表面積・黒色化 |
Rth(j-c) デバイス別目安
| パッケージ | Rth(j-c) 典型値 |
|---|---|
| SOT-23(小信号) | 200-500 ℃/W |
| DPAK / D2PAK | 1.5-3 ℃/W |
| TO-220 | 0.5-2 ℃/W |
| TO-247 | 0.3-1 ℃/W |
| TO-263 / TOLL | 0.5-1.5 ℃/W |
| SiC MOSFETディスクリート | 0.4-1.2 ℃/W |
| IGBTモジュール 100A級 | 0.15-0.4 ℃/W |
| 大容量IGBTモジュール 1000A級 | 0.03-0.1 ℃/W |
| プレスパックGCT/IGCT | 0.005-0.02 ℃/W |
Rth(c-s) 絶縁材/TIM別目安
ケースとヒートシンクの間には、絶縁と熱伝導を両立させるTIM(サーマルインターフェイスマテリアル)を挟みます。素材選定でRth(c-s)は大きく変わります。
| 絶縁材/TIM | 熱伝導率 | Rth(c-s)目安(TO-220相当) |
|---|---|---|
| 直接接触(金属ベア) | — | 0.5-1.5 ℃/W |
| シリコーングリス | 0.7-3 W/mK | 0.1-0.5 ℃/W |
| 高性能グリス(金属フィラ) | 3-8 W/mK | 0.05-0.2 ℃/W |
| マイカ絶縁 | 0.4 W/mK | 1-3 ℃/W |
| シリコーンシート | 1-6 W/mK | 0.5-2 ℃/W |
| グラファイトシート | 10-100 W/mK | 0.05-0.3 ℃/W |
| Phase Change Material(PCM) | 3-6 W/mK | 0.05-0.15 ℃/W |
| 液体金属(Ga-In) | 13-70 W/mK | 0.01-0.05 ℃/W |
Rth(s-a) ヒートシンク・冷却方式別目安
| 冷却方式 | Rth(s-a) 範囲 | 用途例 |
|---|---|---|
| 自然空冷 小型フィン(50-100cm²) | 5-15 ℃/W | 小信号回路・LED電源 |
| 自然空冷 中型フィン(200-500cm²) | 1.5-4 ℃/W | AC-DCアダプタ・小型モータ |
| 自然空冷 大型フィン(1000cm²+) | 0.5-1.5 ℃/W | 屋外設置・防塵性重視 |
| 強制空冷 小型ファン | 0.3-1 ℃/W | PCサーバ電源・PLC電源 |
| 強制空冷 大型ファン+高性能フィン | 0.05-0.3 ℃/W | 大型インバータ・PCS |
| 水冷プレート(1L/min) | 0.03-0.1 ℃/W | EV/HEVインバータ |
| 両面冷却+水冷 | 0.01-0.05 ℃/W | 高性能EV・鉄道車両 |
| ヒートパイプ複合 | 0.1-0.5 ℃/W | 電源装置・車載 |
過渡熱抵抗 Zth(j-c)
定常状態の熱抵抗Rthに対し、短パルス動作では過渡熱抵抗Zth(j-c)を用います。パルス幅1msでは Zth ≈ Rthの1/3〜1/10まで下がり、短時間の高負荷(モータ始動時のインラッシュ電流等)に対応可能。データシートには通常「単発パルス熱インピーダンス曲線」が掲載されています。
Tj_peak = Ta + P_pulse × Zth(j-c, tpulse) + P_avg × Rth(j-a)
連続損失P_avgによる定常温度上昇に、パルス損失P_pulseによる過渡温度上昇を重ね合わせます。
パルス幅別 Zth(j-c) の目安(TO-247の典型例)
| パルス幅 | Zth/Rth 比率 | 用途例 |
|---|---|---|
| 10μs | 0.02-0.05 | 短絡保護動作(SCFOC) |
| 100μs | 0.05-0.15 | PWM制御サイクル |
| 1ms | 0.15-0.3 | モータ始動サージ |
| 10ms | 0.4-0.6 | 電源ON時ラッシュ |
| 100ms | 0.7-0.85 | 系統事故時対応 |
| 1s以上 | ≈1.0(定常近似) | 連続運転 |
短パルス動作(モータ始動・短絡保護・スパイク電流)では過渡熱抵抗を活用することで、実効損失を大きく削減した設計が可能です。逆に、定常Rth前提の設計は過大冷却系となりコストUP要因となります。
次世代冷却技術の動向
SiC/GaNの高熱流束密度化(>300 W/cm²)に対応するため、従来型フィン+空冷を超える次世代冷却技術が急速に商用化しています。
| 技術 | 特徴 | 実用化状況 |
|---|---|---|
| 両面冷却SiCモジュール | チップ上下から冷却 | EV量産採用(BYD・テスラ・トヨタ) |
| 直接液冷(ダイレクトウォーターコンタクト) | ダイ直下に冷却水路 | ハイパースケール電源で採用開始 |
| 液体金属TIM(Ga-In-Sn) | Rth 0.01℃/W級 | ゲーミングPC・産業機器で普及中 |
| マイクロチャネル冷却 | ダイ直上に幅数十μmの流路 | 実験室・一部データセンター |
| 相変化冷却(浸漬冷却) | 絶縁液に浸漬 | データセンター・ビットコインマイニング |
| ヒートパイプアレイ | 大量ヒートパイプで熱拡散 | ノートPC・車載機器で普及 |
| Vapor Chamber | 面全体で熱拡散 | スマホ・高性能グラボで標準 |
データセンター分野では2020年代後半に浸漬冷却が主流化する予測もあり、Rth(s-a) 0.01℃/W以下の超低熱抵抗設計が現実的な選択肢となりつつあります。
業界・現場での使い方
パワエレ設計技術者
冷却系選定の初期見積り。損失計算→熱抵抗設計→ヒートシンク選定の順で回路熱設計を進め、Tj_max到達までのマージン20%以上を目標に設計します。
EV車載インバータ
限られた車載空間で高効率冷却を実現するため、両面水冷+SiC MOSFET+液体金属TIMを組み合わせ、Rth(j-a) 0.05-0.1 ℃/W級を実現。テスラ・トヨタ・ホンダ等が採用。
データセンター・サーバ電源
電力密度10-100 W/cm²のGaN電源で、Vapor Chamber・ヒートパイプ+強制空冷+液冷ハイブリッドで対応。GoogleやAWS等ハイパースケーラで熱設計標準化。
太陽光PCS(屋外設置)
周囲温度Ta最大60℃条件でも動作維持のため、フィン強化+密閉冷却+ヒートパイプ複合で対応。定格50-500kW級PCSでRth設計が寿命(20年)を左右します。
鉄道車両インバータ
Tj_max 125℃厳格運用、走行風冷却+補助ファン+熱容量設計で車両下部搭載。JIS E 5006規格対応、東京メトロ・JR・海外都市鉄道で更新中。
試験研究・信頼性評価
パワーサイクル試験(ΔTj 100-150℃ 数百万回)、熱サイクル試験の設計値算定、はんだクラック・ボンドワイヤリフトオフ寿命の予測にRth値が必須。JEDEC/AECQ規格。
ケーススタディ:冷却設計例
ケース1:EV車載インバータSiC 4kW損失
Rth(j-c) 0.15℃/W(SiCモジュール6個並列合成0.025)、Rth(c-s) 0.02℃/W(液体金属TIM)、Rth(s-a) 0.008℃/W(両面水冷1.5L/min)。合計Rth(j-a) 0.053℃/W。Ta 65℃(車内)条件でTj = 65 + 4000×0.053 = 277℃と過熱→水冷強化 or 並列数増設が必要。実際は8並列化+3L/min水冷でTj 145℃達成。
ケース2:太陽光PCS 30kW SiC・空冷
Rth(j-c) 0.5℃/W×6個並列 = 0.083℃/W、Rth(c-s) 0.1℃/W、Rth(s-a) 0.2℃/W(強制空冷大型ヒートシンク)。合計0.38℃/W。損失410W時Tj = 55 + 410×0.38 = 211℃ → 過熱、ヒートパイプ複合Rth(s-a) 0.1℃/Wに強化してTj 150℃達成。
ケース3:USB-PD GaN 38W損失
Rth(j-c) 4℃/W(GaN小型PKG)、Rth(c-s) 1℃/W(グリス)、Rth(s-a) 15℃/W(PCB放熱)。合計20℃/W。Ta 40℃で1デバイス9.35W負担ならTj = 40 + 9.35×20 = 227℃→過熱。銅箔厚2oz化+ヒートシンク小型追加でRth(s-a) 5℃/W達成、Tj 130℃で運転可能に。
よくある間違い・注意点
- グリスの塗り過剰 — 厚膜化で熱抵抗が増加します。TO-220で理想は10-30μm、ヘラで均一塗布後、規定トルク(通常0.5-1Nm)で締付けると余剰分が押し出され最薄化されます。過剰グリスは絶縁不良の原因にもなります。
- ヒートシンクの過剰選定 — フィン面積4倍にしてもRth(s-a)は半分程度にしか下がりません。費用対効果が悪く、風路設計・強制空冷検討のほうが有効な場合が多いです。
- Tj_maxをフル活用 — Si-150℃、SiC-175℃をそのまま設計上限にすると信頼性寿命が短縮。パワーサイクル寿命はΔTjに強く依存(通常ΔTjの4-5乗に反比例)、常用125℃以下推奨。
- Rth(c-s)を過小評価 — 手締めTO-220で規定押付力の1/3しか出ておらず、Rth(c-s)が2-3倍悪化する例あり。トルクレンチ使用と定期増締めが重要です。
- 定常Rthのみで過渡評価 — モータ始動時・短絡時等の過渡負荷では、過渡熱抵抗Zth(j-c)を使用しないと過大冷却設計となります。
- 周囲温度Taの想定不足 — 屋外PCSでは筐体内温度が外気+20-30℃、車載では+40-60℃になる場合もあり、実測ベースの設計が必要です。
- 放熱経路の重複計算 — 両面冷却・並列パス配置では並列合成の考慮が必要。単純直列で計算すると過大な熱抵抗となります。
- 環境条件の季節変動を無視 — 屋外PCSでは夏冬でTa差50-60℃。設計は最悪条件(夏の炎天下+定格運転)ベースで実施し、冬季は余裕率が上がる想定で判断します。
- 冷却系メンテナンスを考慮しない — フィン汚れ・グリス劣化・ファン故障で経年劣化。設計マージン+定期メンテナンス計画が寿命維持の要です。
関連する規格・法規
- JEDEC JESD51-1〜14 ― 半導体パッケージの熱抵抗測定方法シリーズ。国際的な標準測定手順を規定。
- JEDEC JESD24-13 ― IGBTの熱測定方法。
- ISO 7345 ― 熱絶縁性能・物理量測定の基本規格。
- JEDEC JESD51-14 ― Transient Dual Interface Measurement Method for Rth(j-c)。TDIM法として広く採用。
- JIS C 60747-15 ― 半導体パワーモジュール絶縁性能・熱特性の要求事項。
- IEC 60747-9 ― IGBTの電気的特性・試験方法(熱抵抗を含む)。
- MIL-STD-750 ― 米国防省規格。過酷環境用半導体の試験方法規定。
- AEC-Q101 ― 車載用ディスクリート半導体の信頼性規格。パワーサイクル・熱サイクル試験を規定。
- JIS E 5006 ― 鉄道車両用電力変換装置の一般要件。
- JIS C 8965 ― 太陽光PCSの温度特性・過負荷試験。
参考文献・公的資料
- JEDEC JESD51 Series ― パッケージ熱抵抗測定規格。JESD51-1〜14の一次資料。
- 産業技術総合研究所(AIST) ― パワエレ研究センター、パワー半導体・熱設計研究。
- NEDO(新エネルギー・産業技術総合開発機構) ― パワエレ・冷却技術開発プロジェクト。
- 日本産業標準調査会(JISC) ― JIS C 60747・JIS E 5006等の日本国内規格。
- IEC(国際電気標準会議) ― IEC 60747-9・15等の公式ストア。
- Automotive Electronics Council (AEC) ― AEC-Q101等車載信頼性規格の公式資料。
- 経済産業省 パワーエレクトロニクス政策 ― 次世代パワー半導体の国家戦略。
- IEEE Xplore Digital Library ― IEEE Trans. Components, Packaging等の学術資料。
- 電気学会 ― 半導体電力変換研究会等パワエレ関連の学会。
よくある質問(FAQ)
Rth 0.5+0.1+1.5の合成は?
2.1℃/W。Tj_max 150℃・Ta 40℃条件で最大許容損失は(150-40)/2.1≈52W。実運用30W想定ではTj≈103℃、マージン47℃で安全設計です。
グリスとシート、どちらが熱抵抗低い?
グリスのほうが密着性で有利。高性能グリス(3-8 W/mK)で0.05-0.2 ℃/W、シリコーンシート(1-6 W/mK)で0.5-2 ℃/W。ただしシートは絶縁性・作業性で優位、量産では選ばれることも多いです。
Tj_maxとTj設計値の関係は?
Tj_max(絶対上限)150℃なら、常用は125℃以下、最大でも135-140℃程度を設計値とするのが業界慣習。パワーサイクル寿命はΔTjの4-5乗に反比例するため、Tjを下げることが長寿命化に直結します。
両面冷却でRthはどう計算する?
電気回路の並列抵抗と同じ扱いで、Rth_bothsides = (Rth_top × Rth_bottom) / (Rth_top + Rth_bottom)。理想的には片面のみの半分にできますが、実際は封止材やモールドの熱抵抗が加わるため、片面の50-70%程度になります。
過渡熱抵抗Zthはどこで使う?
モータ始動時のインラッシュ電流、短絡保護動作時、高負荷パルス駆動時など。パルス幅1msでZth≈Rth/5、100μsでRth/10程度が典型値。データシートの単発パルス曲線を読み取り設計します。
ヒートシンクは大きいほど良い?
Rth(s-a)は面積の平方根に反比例的な関係で、面積4倍でも半分程度にしか下がりません。強制空冷併用・熱設計最適化・冷却方式変更(空冷→水冷)のほうがコスパ良好な場合が多いです。
SiCとSi、熱設計で有利なのは?
SiCは高温動作可能(Tj 200℃)で許容ΔTjが大きく、同じ冷却系でも高損失運用可。またSiC自体の損失が小さいため冷却系のダウンサイジング効果もあり、EV/PCSで両立利益が大きい。
Rth(c-s)を下げる最善策は?
グリスからPCM(相変化材)、Ga-In液体金属、グラファイトシートへの置換が有効。ただし液体金属はAl電食問題があり、GaN/SiC電極では化学的相性の確認が必要です。
周囲温度Taはどう想定?
屋内25℃、屋外条件40-60℃(直射日光考慮)、車載70-85℃、産業機器盤内50-70℃、鉄道車両下部70℃程度が業界慣習。実測ベースが望ましく、周囲温度を含む筐体内温度で設計します。
ヒートパイプの効果は?
熱源と放熱部の距離が離れている場合、ヒートパイプで熱を移送するとRth(s-a)を実効的に0.1-0.5℃/Wまで下げられます。ノートPC・小型サーバ電源・車載機器で活用。
熱抵抗測定はどうする?
JEDEC JESD51-14のTDIM法(過渡二重界面測定)が国際標準。デバイスにパルス電力を印加し、Vf感温を利用してTj応答を測定→熱抵抗を分離抽出。専用測定装置(T3Ster等)が必要です。
信頼性寿命との関係は?
パワーサイクル寿命 Nf ∝ ΔTj^(-4〜-5)、熱サイクル寿命 Nf ∝ ΔTa^(-2〜-3)の関係。冷却強化でΔTjを下げると寿命が指数的に伸びます。EV/鉄道等15-20年寿命要求品では熱設計マージンが決定的です。
グリスの塗り方は?
ヘラで薄く均一に、TO-247では10-30μm厚を目安に塗布→規定トルク(0.5-1Nm)で締付。締付後はグリスが均一に押し広がり、余剰分が押し出されるのが理想。過剰塗布は絶縁不良・熱抵抗増の原因です。
浸漬冷却は現実的?
データセンター・暗号通貨マイニング分野で採用拡大中。フッ素系絶縁液(3M Novec等)や合成炭化水素にサーバー全体を沈める方式で、Rth(s-a)を極限まで下げPUE 1.03-1.05実現。ただし液漏れ・保守性・環境問題への配慮が必要です。