光学系回折限界
波長・NAから回折限界を即算出。
光学系回折限界ツール
回折限界
Airy = 1.22λ/(2NA), Rayleigh = 0.61λ/NA
λ550nm・NA0.95で分解能353nm。半導体ArF露光λ193・NA1.35で87nm。EUV露光λ13.5で更に細線化、これが半導体微細化の物理限界です。
光源別 波長
| 光源 | λ(nm) |
|---|---|
| 可視光 | 380-780 |
| UV(g線) | 436 |
| DUV(ArF) | 193 |
| EUV | 13.5 |
光学系回折限界の詳しい解説
回折限界は「光学系の物理的性能上限」。半導体微細化はλ短縮+NA拡大の追求史。EUV露光機3nmプロセスで実用化、超解像顕微鏡STED/SIMで50nm達成事例あります。
業界・現場での使い方
半導体
露光機性能設計。
顕微鏡
分解能予測。
光学設計
レンズ性能限界判定。
よくある間違い・注意点
- 回折限界超過 — 光学的に不可能。エイリアシング発生。
- NA上げすぎ — 焦点深度激減。
関連する規格・法規
- JIS B 7132
- ISO 8578
※本ツールは公的基準に基づく参考計算です。実際の設計・施工・法令適用は最新の告示・規格および所轄官庁の判断に従ってください。
よくある質問（FAQ）
波長193nm・NA1.35の分解能は?
約87nm。